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清洗產(chǎn)品：硬盤(pán)組件
主要清洗物質(zhì)：顆粒附著物、機(jī)油、水點(diǎn)等

工藝上的難點(diǎn)：

1. 選用常規(guī)超聲波可能會(huì)損傷硬盤(pán)

2. 產(chǎn)品清洗均勻性要求高

解決方法：

1. 采用多級(jí)清洗工藝

2. 采用高頻超聲清洗

測(cè)試方法：

一般采用LPC測(cè)試方法檢測(cè)顆粒數(shù)，實(shí)踐證明，應(yīng)用杰冠清洗系統(tǒng)可以非常有效的去除顆粒